Die ATH 2303 M ist speziell für Sputter-Abscheideverfahren in der Photovoltaik, Architekturglas-, Werkzeug- und dekorativer Beschichtung entwickelt worden. Durch Verzicht auf spezifische Ausrüstungen für die Halbleiterproduktionstechnologie wie z.B. die Beheizung bietet die ATH 2303 M ein hervorragendes Preis-Leistungs-Verhältnis. Je nach Anwendung kann die Pumpe entweder mit dem Rack-Controller MAGPOWER oder einem On-Board-Controller betrieben werden.
- Herausragend hoher Gasdurchsatz für alle Sputtergase.
- Sauberes Vakuum durch schmiermittelfreies Magnetlager.
- Geringste Geräuschentwicklung und Vibrationen, in jeder Lage montierbar, permanente Kontrolle der Rotorposition dank aktiver Magnetlagertechnologie.
- Extreme Zuverlässigkeit und Langzeitstabilität durch die beste verfügbare Lagertechnologie.
- Geringe Lebensdauerkosten durch annähernd wartungsfreie Technologie
- Frei wählbare Drehzahl in breitem Drehzahlbereich für optimierte Prozessanpassung
- Hohe Vorvakuumverträglichkeit
- Hohe Lufteinbruchstabilität