Magnetgelagerte Turbomolekular-
pumpen ATH 2800 / 3200 M

Die ATH 2800 M und ATH 3200 M bieten hohen Gasdurchsatz für Nennweiten zwischen DN250 und DN320. Haupteinsatzgebiete sind Vakuumprozesse mit sehr hohen Gasflüssen bis zu 5000 sccm Stickstoff. Dazu zählen Halbleiter-Produktionsprozesse für 300 mm-Wafer, sowie Anwendungen in der Photovoltaik, Displaybeschichtung, F&E und Weltraumsimulation.

• Extrem hoher Gasdurchsatz für alle Prozessgase.
• Hervorragende Langzeitstabilität und Zuverlässigkeit durch die beste verfügbare Lagertechnologie.
• Hohe Vorvakuumverträglichkeit
• Frei wählbare Drehzahl in breitem Drehzahlbereich für optimierte Prozessanpassung
• Sauberes Vakuum durch schmiermittelfreies Magnetlager.
• Geringste Geräuschentwicklung und Vibrationen, in jeder Lage montierbar, permanente Kontrolle der Rotorposition dank aktiver Magnetlagertechnologie.
• Extreme Zuverlässigkeit und Langzeitstabilität durch die beste verfügbare Lagertechnologie.
• Geringe Lebensdauerkosten durch annähernd wartungsfreie Technologie
• Frei wählbare Drehzahl in breitem Drehzahlbereich für optimierte Prozessanpassung
• Hohe Lufteinbruchstabilität
• Kompakte Bauweise – das beste Volumen-zu-Leistungs-Verhältnis ihrer Klasse